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      掃描電鏡

      首頁 > 產品中心 > 掃描電鏡 > 日本電子場發射掃描電鏡JSM-7200F

      產品參數

      產品編號: 日本電子場發射掃描電鏡JSM-7200F所屬品牌: JEOL
      產品型號: JSM-7200F 額定功率:按實際方案提供
      所屬類別: 掃描電鏡所屬用途: VDA19
      應用領域:
      產品特性: JSM-7200F的電子光學系統應用了日本電子旗艦機-JSM-7800F Prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術,標配TTLS系統(Through-The-Lens System),無論是在高/低加速電壓下,空間分辨率都比傳統機型有了很大的提升。此外,保證300nA的最大束流,能兼顧高分辨率觀察和高通量分析,具有充實的自動功能和易用性,是新一代的多功能場發射掃描電鏡。

      日本電子場發射掃描電鏡JSM-7200F

      JSM-7200F的主要特點有:應用了浸沒式肖特基電子槍技術的電子光學系統;

      利用GB(Gentle Beam 模式)和各種檢測 器在低加速電壓下能進行高分辨觀

      察和選擇信號的TTLS系統(Through-The-Lens System);電磁場疊加的混

      合式物鏡。

      浸沒式肖特基電子槍

       

       

      浸沒式肖特基場發射電子槍為日本電子的技術,通過對電子槍和低像差聚光鏡進行優化,能有 效利用從電子槍中發射的電子,即使電子束流很大也能獲得很細的束斑。因而可以實現高通量分析(EDS、WDS面分析、EBSD分析等)。

      TTLS(through-the-lens系統)

       

       

      TTLS(through-the-lens系統)是利用GB(Gentle Beam 模式)在低加速電壓下能進行高

      分辨率觀察和信號選擇的系統。 利用GB(Gentle Beam 模式)通過給樣品加以偏壓,對入

      射電子有減速、對樣品中發射出的電子有加速作用,即使在低加速電壓(入射電壓)下,也

      能獲得信噪比良好的高分辨率圖像。 

       

      此外,利用安裝在TTLS的能 量過濾器過濾電壓,可以調節二次電子的檢測量。這樣在極低加

      速電壓的條件下,用高位檢測 器(UED)就可以只獲取來自樣品淺表面的大角度背散射電子。

      因過濾電壓用UED沒有檢測出的低能 量電子,可以用高位二次電子檢測 器(USD,選配件)檢

      測出來,因此JSM-7200F能同時獲取二次電子像和背散射電子像。

      混合式物鏡(電磁場疊加)

       

       

      JSM-7200F的物鏡采用了日本電子新開發的混合式透鏡。 

      這種混合式透鏡是組合了磁透鏡和靜電透鏡的電磁場疊加型物鏡,比傳統的out-lens像差小,能獲得更高的空間分辨率。 JSM-7200F仍然保持了out-lens的易用性,所以可以觀察和分析磁性材料樣品。

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